声明

本文是学习GB-T 16596-2019 确定晶片坐标系规范. 而整理的学习笔记,分享出来希望更多人受益,如果存在侵权请及时联系我们

1 范围

本标准规定了使用直角坐标和极坐标建立晶片正面坐标系、背面坐标系和三维坐标系的程序。

本标准适用于有图形和无图形的晶片坐标系的建立。该坐标系用于确定和记录晶片上的缺陷、颗

粒等测试结果的准确位置。

2 规范性引用文件

下列文件对于本文件的应用是必不可少的。凡是注日期的引用文件,仅注日期的版本适用于本文

件。凡是不注日期的引用文件,其最新版本(包括所有的修改单)适用于本文件。

GB/T 16595 晶片通用网格规范

GB/T 34479 硅片字母数字标志规范

YS/T 986 晶片正面系列字母数字标志规范

SEMI E5 半 导 体 设 备 通 信 标 准 2 报 文 内 容 (SECS- Ⅱ) 的 规 范
[Specification for SEMI

equipment communications standard 2 message content(SECS-Ⅱ)]

SEMI M1 硅单晶抛光片规范(Specification for polished single crystal
silicon wafers)

3 晶片坐标系的建立原则

3.1 总则

本标准中的晶片坐标系利用晶片中心点作为直角坐标系(X-Y) 或极坐标系(r-
θ)的原点,可确定晶
片上任意点的坐标。对于无图形晶片,可直接使用本晶片坐标系,也可与矩形阵列或极坐标重叠阵列一
起使用。本晶片坐标系也可用于确定另一坐标系的原点或其他基准点的位置,而这另一坐标系则常表

示或记录了晶片上的局部区域、芯片或图形阵列的位置特征。

3.2 晶片正面坐标系

将晶片正表面向上放置,确定晶片中心点位置。建立右手直角坐标系。主定位基准位于Y
轴负方

向。根据应用选择直角坐标系或极坐标系(参考 X 轴正向)。

3.3 晶片背面坐标系

围绕主定位基准的平分线(Y 轴)转动晶片,直至晶片背表面朝上。除了X
轴的方向与正面坐标系

相反,背面坐标系的其他内容与正面坐标系相同。

3.4 三维坐标系

由于Z 轴的零点需要根据应用来确定,本标准仅定义出 Z
轴方向和各种可能的零点位置。

GB/T 16596—2019

4 晶片坐标系的建立步骤

4.1 晶片正面坐标系

4.1.1 将晶片正表面向上放置。

4.1.2
找出晶片表面的中心点。假定忽略了参考面和边缘不规则区域的晶片外边缘是晶片的最小圆,
该圆的圆心即为晶片中心点。

4.1.3 右手直角坐标系按下列步骤确定:

a) 以晶片中心点为坐标原点;

b) 坐标系的Y
轴在晶片正表面的直径上,该直径平分主定位基准(参考面或切口);

c) 坐标系的X 轴在晶片正表面的直径上,且与主定位基准的平分线(Y
轴)垂直。

4.1.4 以坐标系原点为参照,主定位基准在Y 轴负方向,见图1。

4.1.5 如果使用极坐标系,X
轴正方向的θ坐标是0°,主定位基准平分线向上延伸的θ坐标是90°,X
轴负方向的θ坐标是180°,主定位基准平分线的向下延伸的θ坐标是270°。 r
和θ的方向见图1。

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1 晶片正面坐标系

4.2 晶片背面坐标系

4.2.1 转动晶片,使晶片背表面向上。

4.2.2 主定位基准位于Y 轴负方向,X
轴正方向向左。这样,晶片背表面点的x-y(r- θ) 坐标与直接

通过晶片正表面点的坐标完全相同。

4.3 三维坐标系

4.3.1 将晶片正表面向上。

4.3.2 Z 轴穿过晶片表面中心点且与晶片表面垂直,晶片的正表面位于Z
轴正方向,见图2。

4.3.3 不同应用情况下,Z 轴零点的规定不同,例如:

a) 测量晶片的翘曲度,Z 轴零点可能在晶片的三维几何中心;

b) 测量正表面的平整度, Z
轴零点通常随基准面而定,基准面的选择按照特定的平整度参数 确定;

c) 测量厚度或厚度变化,Z 轴零点可能在晶片背表面中心点。

GB/T 16596—2019

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2 三维坐标系Z 轴的方向指示

5 晶片坐标系的应用

5.1 本晶片坐标系用于确定和记录晶片上的缺陷、颗粒等测试结果的准确位置。

5.2 光刻的掩膜校准规则可与本晶片坐标系不一致。

5.3
硅片的副参考面位置由主参考面沿顺时针方向旋转而确定,其与晶片坐标系的极角坐标规则相反。

5.4 在 SEMIM1
中,用边缘轮廓模板建立的边缘参考坐标系用于边缘的参照,其与本晶片坐标系不
同。边缘轮廓模板和边缘轮廓参数使用不同的坐标系,具体如下:

a) 边缘轮廓模板用 X 轴的径向方向(从晶片边缘向内)和Y
轴的垂直方向(从晶片表面向晶片中 位面)定义模板;

b) 边缘轮廓参数用q 轴的径向方向(从晶片边缘向内)和Z
轴的垂直方向(从晶片中位面向晶片 表面)定义边缘轮廓的横截面。

5.5 在 SEMIE5
中,晶片的标准位置类似于其在晶片坐标系的位置,即主定位基准向下,它的平分线
在 Y
轴负方向上,而晶片的旋转位置是从该标准位置向顺时针方向旋转来定义,这与晶片坐标系的极
角坐标规则相反。在SEMIE5
中,不旋转坐标系的轴,晶片相对于轴旋转。而在晶片坐标系中,坐标轴
由晶片本身定位,不受晶片实际空间位置的限制。

5.6 在 GB/T 34479 和 YS/T986 中,对于直径100 mm、125 mm 和150 mm
带参考面的晶片,它的字
符字段的位置是参照参考面而不是参照晶片中心点来规定,字符字段的位置相对于晶片中心点是变化
的,字符字段顶角处位置的坐标(在晶片坐标系中)可以因晶片而不同;而直径150
mm、200 mm 和

300 mm 带切口的晶片字符字段位置是参照晶片中心点来定位。

5.7 在某些情况下,无图形的晶片表面不易区分正面和背面。

5.8 SEMIE5 在"流12—
晶片图像"中,描述了一个坐标系是如何报告待传输的位置数据。另外,坐标
系的原点既可以是在生成晶片图像时由设备指定,也可以是位于阵列中的五个位置之一
(即左上角、左
下角、右上角、右下角或中心)。该"流"保证晶片图像坐标系与实际晶片相对应的基准点的任一数据的
传输,而本晶片坐标系可用于确定基准点和晶片图像坐标系原点的位置。

注:流是程序输入或输出的一个连续的字节序列。

5.9 GB/T
16595规定了含有1000个单元的极坐标阵列,可用于标记晶片上分布的缺陷(例如滑移)
的位置。该阵列与晶片坐标系一致。

5.10
本标准中的晶片坐标系对晶片的直径没有特殊规定,但对于自动设备,可能只接收标称直径的晶片。

延伸阅读

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